研究成果：技术轨道延伸与破解技术路径锁定研究——以光刻产业为例
作者：杨武，陈培，Gad David，孙世强
发表期刊：科学学研究（FMS T1）
以光刻为代表的系列产业处于“技术路径锁定”的困局，能否走向更深层次的技术突破和产业变革取决于能否破解“技术路径锁定”。以光刻为例，通过近期科学研究与技术主路径的关联，将技术轨道延伸和扩展至最新研究前沿，揭示可能发生技术改进和技术突破的领域，为后发国家实现技术赶超、破解技术锁定提供了机会。研究发现光刻的技术轨道演化方向为：纳米压印技术、脱模技术、掩膜定位和EUV光刻胶工艺；主路径上光刻技术主要来自发达国家，但通过扩展和延伸，逐渐有大量中国的研究成果出现，在一定程度上技术轨道与科学研究存在关联，但也有差异；关于如何破解技术路径锁定，可以从顺轨创新型路径和技术跨越型路径两个维度采取不同的破解策略。本研究对于发现技术突破窗口，破解发达国家对我国的“技术路径锁定”具有重要的现实意义。
文献来源：杨武，陈培，Gad David，孙世强．技术轨道延伸与破解技术路径锁定研究——以光刻产业为例[J/OL]．科学学研究.https://doi.org/10.16192/j.cnki.1003-2053.20211119.004